搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

MeV高能B+离子注入Si中二次缺陷的抑制与消除

卢武星 钱亚宏 田人和 王忠烈

引用本文:
Citation:

MeV高能B+离子注入Si中二次缺陷的抑制与消除

卢武星, 钱亚宏, 田人和, 王忠烈

SUPPRESSION AND ELIMINATION OF SECONDARY DEFECTS IN SILICON IMPLANTED WITH MeV ENERGETIC B+ IONS

LU WU-XING, QIAN YA-HONG, TIAN REN-HE, WANG ZHONG-LIE
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  7348
  • PDF下载量:  529
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1989-03-07
  • 刊出日期:  1990-01-05

/

返回文章
返回