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低剂量磷离子注入快速退火硅中的缺陷研究

李晓雷 陆昉 孙恒慧 黄庆红

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低剂量磷离子注入快速退火硅中的缺陷研究

李晓雷, 陆昉, 孙恒慧, 黄庆红

STUDY OF DEFECTS IN LOW-DOSE P+ IMPLANTED AND RAPID THERMAL ANNEALED SILICON

LI XIAO-LEI, LU FANG, SUN HENG-HUI, HUANG QING-HONG
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出版历程
  • 收稿日期:  1991-06-03
  • 刊出日期:  1992-03-05

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