[1] |
罗长维, 仇猛淋, 王广甫, 王庭顺, 赵国强, 华青松. 利用离子激发发光研究ZnO离子注入和退火处理的缺陷变化. 物理学报,
2020, 69(10): 102901.
doi: 10.7498/aps.69.20200029
|
[2] |
秦希峰, 梁毅, 王凤翔, 李双, 付刚, 季艳菊. 铒离子注入碳化硅的射程和退火行为研究. 物理学报,
2011, 60(6): 066101.
doi: 10.7498/aps.60.066101
|
[3] |
胡晓君, 胡衡, 陈小虎, 许贝. 磷离子注入纳米金刚石薄膜的n型导电性能与微结构研究. 物理学报,
2011, 60(6): 068101.
doi: 10.7498/aps.60.068101
|
[4] |
刘显明, 李斌成, 高卫东, 韩艳玲. 离子注入硅片快速退火后的红外椭偏光谱研究. 物理学报,
2010, 59(3): 1632-1637.
doi: 10.7498/aps.59.1632
|
[5] |
张洪华, 张崇宏, 李炳生, 周丽宏, 杨义涛, 付云翀. 碳化硅中氦离子高温注入引入的缺陷及其退火行为的光谱研究. 物理学报,
2009, 58(5): 3302-3308.
doi: 10.7498/aps.58.3302
|
[6] |
缪竞威, 王培禄, 朱洲森, 袁学东, 王 虎, 杨朝文, 师勉恭, 缪 蕾, 孙威立, 张 静, 廖雪花. 氮团簇离子注入单晶硅的光致发光谱研究. 物理学报,
2008, 57(4): 2174-2178.
doi: 10.7498/aps.57.2174
|
[7] |
杨义涛, 张崇宏, 周丽宏, 李炳生. 铝镁尖晶石中He离子注入引起损伤的退火行为研究. 物理学报,
2008, 57(8): 5165-5169.
doi: 10.7498/aps.57.5165
|
[8] |
郝小鹏, 王宝义, 于润升, 魏 龙. 锆离子注入锆-4合金缺陷的慢正电子研究. 物理学报,
2007, 56(11): 6543-6546.
doi: 10.7498/aps.56.6543
|
[9] |
陈志权, 河裾厚男. He离子注入ZnO中缺陷形成的慢正电子束研究. 物理学报,
2006, 55(8): 4353-4357.
doi: 10.7498/aps.55.4353
|
[10] |
张 丽, 蒋昌忠, 任 峰, 陈海波, 石 瑛, 付 强. Ag-Cu离子注入玻璃后不同气氛退火的光吸收研究. 物理学报,
2004, 53(9): 2910-2914.
doi: 10.7498/aps.53.2910
|
[11] |
陈贵宾, 陆 卫, 蔡炜颖, 李志锋, 陈效双, 胡晓宁, 何 力, 沈学础. HgCdTe红外探测器离子注入剂量优化研究. 物理学报,
2004, 53(3): 911-914.
doi: 10.7498/aps.53.911
|
[12] |
王引书, 李晋闽, 金运范, 王玉田, 林兰英. 不同剂量C离子注入Si单晶中Si1-xCx合金的形成及其特征. 物理学报,
2000, 49(11): 2210-2213.
doi: 10.7498/aps.49.2210
|
[13] |
刘家璐, 张廷庆, 冯建华, 周冠山, 应明炯. B+注入HgCdTe快速热退火的研究. 物理学报,
1998, 47(1): 47-52.
doi: 10.7498/aps.47.47
|
[14] |
卢武星, R.J.Schreatelkamp, J.R.Liefting, F.W.Saris. 高能重离子注入Si中缺陷的抑制. 物理学报,
1995, 44(7): 1101-1107.
doi: 10.7498/aps.44.1101
|
[15] |
田人和, 卢武星, 李竹怀, 高愈尊. InSb中离子注入二次缺陷研究. 物理学报,
1992, 41(5): 809-813.
doi: 10.7498/aps.41.809
|
[16] |
沈鸿烈, 杨根庆, 周祖尧, 邹世昌. 磷化铟中离子注入硅的双性行为研究. 物理学报,
1991, 40(3): 476-482.
doi: 10.7498/aps.40.476
|
[17] |
. 离子注入GaAs的脉冲激光退火. 物理学报,
1988, 37(5): 842-846.
doi: 10.7498/aps.37.842
|
[18] |
钱佑华, 陈良尧. 硅离子注入层的电场调制反射光谱. 物理学报,
1982, 31(5): 646-653.
doi: 10.7498/aps.31.646
|
[19] |
夏日源. 高剂量离子注入形成的非晶层重新结晶过程中杂质外扩散的物理模型. 物理学报,
1980, 29(5): 566-576.
doi: 10.7498/aps.29.566
|
[20] |
莫党, 卢因诚, 李旦晖, 刘尚合, 卢武星. 用椭圆偏光法研究硅中砷离子注入的损伤和退火效应. 物理学报,
1980, 29(9): 1214-1216.
doi: 10.7498/aps.29.1214
|