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等离子体发射光谱诊断用于射频磁控溅射GaP薄膜的工艺参数优化

李阳平 刘正堂

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等离子体发射光谱诊断用于射频磁控溅射GaP薄膜的工艺参数优化

李阳平, 刘正堂

Plasma emission diagnostics for the optimization of deposition parameters in RF magnetron sputtering of GaP film

Li Yang-Ping, Liu Zheng-Tang
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-10-15
  • 修回日期:  2008-11-09
  • 刊出日期:  2009-07-20

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