搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

硅异质结太阳电池中钝化层和发射层的优化设计

张博宇 周佳凯 任程超 苏祥林 任慧志 赵颖 张晓丹 侯国付

许政一, 霍裕平. 二价铁对铁磁共振线宽的影响. 物理学报, 1965, 21(3): 591-607. doi: 10.7498/aps.21.591
引用本文: 许政一, 霍裕平. 二价铁对铁磁共振线宽的影响. 物理学报, 1965, 21(3): 591-607. doi: 10.7498/aps.21.591
HSU DSEN-I, HO YU-PING. EFFECT OF Fe2+ ON THE LINE WIDTH OF FERRIMAGNETIC RESONANCE. Acta Phys. Sin., 1965, 21(3): 591-607. doi: 10.7498/aps.21.591
Citation: HSU DSEN-I, HO YU-PING. EFFECT OF Fe2+ ON THE LINE WIDTH OF FERRIMAGNETIC RESONANCE. Acta Phys. Sin., 1965, 21(3): 591-607. doi: 10.7498/aps.21.591

硅异质结太阳电池中钝化层和发射层的优化设计

张博宇, 周佳凯, 任程超, 苏祥林, 任慧志, 赵颖, 张晓丹, 侯国付

Design and optimization of passivation layers and emitter layers in silicon heterojunction solar cells

Zhang Bo-Yu, Zhou Jia-Kai, Ren Cheng-Chao, Su Xiang-Lin, Ren Hui-Zhi, Zhao Ying, Zhang Xiao-Dan, Hou Guo-Fu
Article Text (iFLYTEK Translation)
PDF
HTML
导出引用
  • 本征钝化层及p型发射层对硅异质结太阳电池的性能具有重要的影响. 本文在常规钝化层与晶硅衬底(c-Si)之间插入一层低功率、高氢稀释比沉积的超薄缓冲层, 以此来提高钝化效果, 并拓宽钝化层工艺窗口. 此外, 设计并制备了具有宽带隙、高电导特性的重掺杂纳米晶硅/轻掺杂p型双层复合发射极. 实验结果表明, 双层钝化层具有更加稳定与优异的钝化效果, 钝化样品的少子寿命达到4.197 ms, 隐含开路电压(implied-VOC, iVOC)达到726 mV. 同时双层复合发射层中, 轻掺杂的掺杂层可以减弱掺杂剂向本征钝化层的扩散, 保证良好的钝化效果, 而重掺杂的掺杂层不仅能够提供足够的内建电场, 而且可以改善掺杂层与氧化铟锡薄膜的接触特性, 进而提升电池的输出特性. 并且高氢稀释比的前掺杂层还可以对钝化层起到氢处理的作用, 减少钝化层表面的悬挂键, 从而增强化学钝化效果, 进而提高电池的开路电压. 最终, 基于商业化制绒的硅片, 获得了效率达到20.96%的硅异质结太阳电池, 其中开路电压为710 mV, 短路电流密度为39.88 mA/cm2, 填充因子为74.02%.
    Silicon heterojunction (SHJ) solar cells have attracted much attention in the international photovoltaic market due to their high efficiencies and low costs. The quality of amorphous silicon/crystalline silicon (a-Si:H/c-Si) interfaces of SHJ solar cells has a key influence on the device performance. Therefore, the carrier recombination rate of a-Si:H/c-Si interface needs to be effectively controlled. In addition, as the important component of SHJ solar cells, the p-type emitter must meet the requirements for high conductivity, high light transmittance, and energy band matching with c-Si. The research contents and the relevant achievements of this paper include the following aspects. Firstly, in order to reduce the surface defects and realize the energy band alignment of a-Si:H/c-Si interface, the effect of passivation layer on passivation effect is studied. An ultra-thin buffer layer deposited by a low power and a high hydrogen dilution ratio is inserted between the conventional passivation layer and c-Si to improve the passivation effect and broaden the process window of passivation layer. The effects of the buffer layer thickness and hydrogen dilution ratio on passivation quality are further studied, and the best experimental conditions of buffer layer are obtained. The experimental results show that the sample with double-layered passivation layer is more stable than the conventional passivation layer. The minority carrier lifetime of the sample with single conventional passivation layer is 3.8 ms and the iVOC is 712 mV, while the minority carrier lifetime of the sample with double-layered passivation layer is 4.197 ms and the iVOC is 726 mV.Secondly, for the p-type emitters of silicon heterojunction solar cells, the effects of doping level on the photoelectric properties of p-type hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H) thin films are studied. On this basis, the p++-nc-Si:H/p-nc-Si:H double-layer emitter with wide band gap and high conductivity is designed and fabricated. By analyzing the optical and electrical properties of different emitters, it is found that p-nc-Si:H has good electrical and optical properties. Owing to the high doping efficiency of nc-Si, a small amount of doping can obtain high conductivity. Lightly doped p-nc-Si:H provides a better contact with the passivation layer, while heavily doped p++-nc-Si:H can not only provide enough built-in electric field, but also improve the contact characteristics of p/ITO, thus enhancing the output characteristics of the cell. At the same time, the deposition of p-nc-Si:H layer with high hydrogen dilution ratio can also implement the hydrogen plasma treatment on the passivation layer, the reduction of the dangling bonds on the surface of the c-Si, the enhancement of the chemical passivation effect, and thus improving the open circuit voltage of the cell. Finally, a silicon heterojunction solar cell with an efficiency of 20.96% is obtained based on the commercial czochralski silicon wafer, with an open circuit voltage of 710 mV, a short circuit current density of 39.88 mA/cm2 and filling factor of 74.02%.
      PACS:
      32.80.Rm(Multiphoton ionization and excitation to highly excited states)
      32.80.Fb(Photoionization of atoms and ions)
      42.50.Hz(Strong-field excitation of optical transitions in quantum systems; multiphoton processes; dynamic Stark shift)
      通信作者: 侯国付, gfhou@nankai.edu.cn
    • 基金项目: 国家重点研发计划(批准号: 2018YFB1500402)和国家自然科学基金(批准号: 62074084)资助的课题
      Corresponding author: Hou Guo-Fu, gfhou@nankai.edu.cn
    • Funds: Project supported by the National Key R&D Program of China (Grant No. 2018YFB1500402) and the National Natural Science Foundation of China (Grant No. 62074084)

    晶硅异质结太阳电池(silicon heterojuncion solar cells, SHJ)因为具备高效且低成本的优点而倍受国际光伏市场的关注[1-3]. 2017年, Yoshikawa等[4]使用交叉指式背接触技术的电池结构, 使器件的最终转换效率达到26.63%, 创造了该结构太阳电池的世界纪录, 并且通过理论分析得出晶硅太阳电池转换效率的理论极限效率为 29.1%. 由于SHJ电池的非晶硅/晶体硅(a-Si:H/c-Si)界面质量的优劣对电池的性能参数具有关键的影响, SHJ电池高的开路电压的实现, 依赖于氢化本征非晶硅(i-a-Si:H)组成的钝化层, 通过H原子饱和c-Si表面的悬挂键, 降低光生载流子在界面处的复合和界面态密度. 但由于i-a-Si:H通常需要较薄的厚度, 最佳的沉积条件为接近于产生外延生长的条件[5-7]. 过厚的i-a-Si:H也会造成寄生吸收, 从而降低电池的短路电流密度[8,9]. 因而i-a-Si:H薄膜可调控的窗口相对较窄, 在实际实验制备中较难控制. 2015年, Paviet-Salomon 等[10]通过较高微结构因子的本征层钝化, 在270 μm硅片上得到的少子寿命大于30 ms, 并通过在图形化的n型纳米晶硅(n-nc-Si:H)上生长全面覆盖的p型纳米晶硅(p-nc-Si:H), 最终得到了24.42%的效率. 2020年, Ru等[11]使用低速生长的超薄本征缓冲层提高钝化效果, 在244.45 cm2面积上的电池效率达到25.11%, 为整硅片大面积SHJ异质结电池的世界纪录. 2009年, Wu等[12]研究发现, 经过热丝化学气相沉积掺杂层后, 由于高反应性的氢原子扩散, i-a-Si:H的钝化效果得到有效改善, 使用低致密度的i-a-Si:H更有助于该现象的产生, 通过沉积较低致密度的i-a-Si:H以及后续工艺改善钝化效果, 最终在硅片(156 mm × 156 mm)上实现了741 mV的高开压以及23.0%的转换效率.

    此外, 电池的p型发射层作为构成SHJ电池的重要组成部分之一, 必须具有足够的导电性与透光性, 以及满足能带匹配等方面的要求; 更重要的是, p型的沉积不能影响i-a-Si:H的微结构特性, 确保a-Si:H/c-Si界面的钝化效果不会受到影响[13-16]. 2018年, Boccard等[17]在i-a-Si:H和p-nc-Si:H界面处加入CO2等离子体处理, 从而提高p-nc-Si:H的晶化率, 经过该处理的电池得到了21.5%的效率. 同年, 德国于利希研究中心的Richter等[18]探究了不同生长条件下n, p掺杂硅氧材料的折射率与光学带隙等特性, 并且分别使用n型纳米晶硅氧(n-nc-SiOx :H)和p型纳米晶硅氧(p-nc-SiOx :H)作为前后掺杂层, 获得效率为21.4%的SHJ电池. 2020年, 中国科学院上海微系统与信息技术研究所通过三步后掺杂法提高催化化学气相沉积生长的p型掺杂层的掺杂浓度, 观察到氢原子的扩散有利于下方本征层的氢含量增加, 并且提高了p型掺杂层的掺杂浓度, 增加了场效应钝化的效果, 电池效率提升到22.18%[19].

    本文首先研究在c-Si与常规钝化层之间引入超薄的i-a-Si:H缓冲层, 用于提高钝化效果, 同时扩展钝化的工艺窗口; 然后提出一种双层结构的发射极, 即在p-nc-Si:H薄膜的上面再沉积一层重掺杂的p型掺杂层, 用于降低掺杂层与透明导电玻璃(ITO)之间的接触电阻, 提高SHJ电池的整体性能.

    超薄缓冲层的制备. 实验采用n型(100)晶向直拉(Cz)切割硅片为衬底, 电阻率为1.5—7.0 Ω·cm, 厚度为180 μm. 通过等离子体化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)系统制备薄膜, 具体参数为: 氢稀释比(H2∶SiH4)RH = 140∶20, 功率为1 W, 衬底温度为160 ℃, 极板间距为20 mm.

    常规钝化层的制备. 在缓冲层上沉积常规钝化层, 工艺参数为: 氢稀释比RH = 110∶20, 功率为4 W, 衬底温度为160 ℃, 极板间距为20 mm. 含双层钝化层的SHJ电池结构如图1(a)所示.

    图 1 (a)含双层钝化层的SHJ电池示意图; (b)含双层发射极的SHJ电池示意图\r\nFig. 1. (a) Schematic diagram of the SHJ solar cell with the double passivation layer; (b) schematic diagram of the SHJ solar cell with the double emitting layer.
    图 1  (a)含双层钝化层的SHJ电池示意图; (b)含双层发射极的SHJ电池示意图
    Fig. 1.  (a) Schematic diagram of the SHJ solar cell with the double passivation layer; (b) schematic diagram of the SHJ solar cell with the double emitting layer.

    前掺杂层的制备. 采用PECVD, 硅烷∶氢气∶三甲基硼(SiH4∶H2∶TMB) = 4∶400∶1.2, 沉积功率为10 W, 极板间距为20 mm, 沉积厚度为13 nm.

    后掺杂层的制备. 采用PECVD, 硅烷∶氢气∶三甲基硼(SiH4∶H2∶TMB) = 4∶200∶4.8, 沉积功率为10 W, 极板间距为20 mm, 沉积厚度为5 nm. 含双层发射极的SHJ电池结构如图1(b)所示.

    不同硅薄膜生长厚度由ET200台阶仪获得. 原子力显微镜测试薄膜表面粗糙度. 拉曼光谱仪用来测试所制备硅薄膜的结晶程度. 硅薄膜电导率由共面光暗电导率测试获得. 硅薄膜载流子浓度由霍尔测试获得. 硅薄膜激活能由激活能自动测试系统获得. 样品少数载流子寿命由WCT-120型少数载流子寿命测试仪获得. 硅薄膜材料微结构特性由傅里叶变换红外光谱测试(Fourier transform infra-red, FTIR)获得. SHJ电池外量子效率(external quantum efficiency, EQE)由QEX10型太阳电池量子效率测试系统获得. 所有电池样品由双光源太阳模拟器(WXS-156S-L2, AM1.5GMM)在室温25 ℃、功率密度为100 mW/cm2的条件下进行测试.

    对单层钝化层改变氢稀释比进行实验, 图2为不同氢稀释比的单层钝化层在inip结构上的少子寿命与隐含开路电压(implied-VOC, iVOC)的变化情况.

    图 2 不同氢稀释比的单层钝化层的少子寿命和iVOC的变化趋势\r\nFig. 2. Minority carrier lifetime and variation trend of iVOC in single passivation layer with different hydrogen dilution ratio.
    图 2  不同氢稀释比的单层钝化层的少子寿命和iVOC的变化趋势
    Fig. 2.  Minority carrier lifetime and variation trend of iVOC in single passivation layer with different hydrogen dilution ratio.

    图2可知, 单层钝化层最佳少子寿命为2.2 ms, 但是当氢稀释比高于4时, 少子寿命下降明显, 这是由于钝化层发生外延导致钝化质量恶化, 因为外延硅中的氢含量是非晶硅中的1/100—1/30, 较低的氢含量导致无法获得好的钝化结果, 另外, 外延硅中含有较多的与团簇氢相关的缺陷, 这对电池性能造成不利影响.

    由于单层钝化层沉积过程中容易发生外延现象, 导致所能调节的实验窗口过窄, 很大程度上限制了硅异质结太阳电池性能的提高[20,21], 为了有效防止外延, 提高钝化层性能, 拓宽实验窗口, 在钝化层与c-Si之间插入一层超薄的缓冲层, 研究了双层钝化层对钝化效果的影响.

    3.1.1   缓冲层对钝化效果的影响

    将低功率高氢稀释比(1 W, RH = 140∶20)的缓冲层与常规钝化层做了FTIR图谱测试, 并对图谱进行了分峰处理, 如图3所示.

    图 3 (a)常规钝化层的FTIR图; (b)缓冲层的FTIR图谱\r\nFig. 3. FTIR spectra of (a) conventional passivation layers and (b) buffer passivation layers.
    图 3  (a)常规钝化层的FTIR图; (b)缓冲层的FTIR图谱
    Fig. 3.  FTIR spectra of (a) conventional passivation layers and (b) buffer passivation layers.

    图3可以看出, 低功率高氢稀释比的缓冲层中, 二氢化物(Si—H2)键的占比明显比常规钝化层多. 一般来说, 具有较低微观结构因子(R)的高质量i-a-Si:H材料有利于SHJ太阳电池的性能, 然而, 在PECVD过程中, a-Si:H/c-Si界面的外延生长不利于表面钝化[9,22]. 尽管存在缺陷, 但是富氢的缓冲层仍有希望通过形成突变的a-Si:H/c-Si界面来改善钝化, 其原因为在 PECVD工艺中, 在低沉积速率条件下, 可以更有效地饱和硅悬挂键, 并尽可能减缓界面外延生长. 同时由于缓冲层具有很高的氢稀释比, 而且结构疏松, 所以Si—H2键占据了主导地位. 尽管这与以往对钝化层最佳效果的认知有很大不同, 但是因为缓冲层的超薄特性, 以及在后续钝化层的沉积过程中, Si—H2键断裂, 从而释放出更多的氢来饱和界面的悬挂键, 从而达到了提高少数载流子寿命、增强钝化效果的目的.

    低功率高氢稀释比的缓冲层中Si—H2键过多, 当缓冲层厚度增加时, 过多的缺陷会使得钝化效果无法得到优化, 因此缓冲层的厚度至关重要, 图4给出了不同厚度缓冲层对少子寿命和iVOC的影响. 可以看出, 缓冲层厚度在0.4—1 nm之间时, 少子寿命稳定在3 ms左右, 说明缓冲层对钝化性能起到改善作用, 当缓冲层厚度超过1 nm后, 少子寿命与iVOC有很大的下降, 这表明疏松的缓冲层已经影响到整体钝化层的性能, 而因为低功率缓冲层的存在, 后续沉积的钝化层的外延性大大降低, 钝化层优化的条件相较之前有了扩宽.

    图 4 不同厚度缓冲层的少子寿命和iVOC的变化趋势\r\nFig. 4. Minority carrier lifetime and iVOC of samples with different thicknesses of buffer layer.
    图 4  不同厚度缓冲层的少子寿命和iVOC的变化趋势
    Fig. 4.  Minority carrier lifetime and iVOC of samples with different thicknesses of buffer layer.
    3.1.2   常规钝化层对钝化效果的影响

    为了获得更好的钝化性能, 在缓冲层厚度为1 nm的基础上对常规钝化层氢稀释比进行了进一步优化, 氢稀释比从RH = 80∶20增加到RH = 120∶20, 整体钝化层厚度保持一致, 为5 nm[23]. 图5为增加常规钝化层氢稀释比对少子寿命与iVOC的影响. 可以看出, 氢稀释比在RH = 80∶20—110∶20范围内均有良好的钝化效果, 因为低功率缓冲层的加入为i-a-Si:H提供了保护层, 同时由于缓冲层是低功率的, 可以有效地饱和悬挂键, 所以与c-Si接触的地方很难形成外延, 并且低功率的缓冲层对c-Si衬底的轰击更小, 对于常规钝化层来说, 双层钝化层能够拓宽钝化工艺的窗口.

    图 5 不同氢稀释比的双层钝化层的少子寿命与iVOC的变化趋势\r\nFig. 5. Minority carrier lifetimes and iVOC of samples of double passivation layer for different hydrogen dilution ratio.
    图 5  不同氢稀释比的双层钝化层的少子寿命与iVOC的变化趋势
    Fig. 5.  Minority carrier lifetimes and iVOC of samples of double passivation layer for different hydrogen dilution ratio.

    为了验证双层钝化层的可重复性, 同时与常规钝化层进行对比, 采用常规单层钝化层与双层钝化层在inip结构上各做了10组实验进行统计学分析. 图6为两种不同钝化层的少子寿命的箱线图, 可以明显地看出, 采用单钝化层时的样品钝化寿命多数不超过2.5 ms, 而采用双钝化层的样品钝化寿命多数超过3.5 ms, 这说明低功率缓冲层可以很好地抑制外延的发生, 而且该低功率缓冲层对钝化层实验的可重复性也起到重要的作用. 当常规钝化层的氢稀释比RH = 110∶20时, 钝化效果最好, 并且具有很好的可重复性.

    图 6 双层钝化层与单层钝化层的少子寿命箱线图\r\nFig. 6. Minority carrier lifetimes of samples with double passivation layers or single passivation layers.
    图 6  双层钝化层与单层钝化层的少子寿命箱线图
    Fig. 6.  Minority carrier lifetimes of samples with double passivation layers or single passivation layers.
    3.2.1   前掺杂层对SHJ太阳电池的影响

    发射极过高的掺杂会带来更多的缺陷, 使悬挂键数量与自由载流子浓度增加[24-26], 因此我们采用轻掺杂的p-nc-Si:H作为发射极的前掺杂层. 首先为了获得更接近实际SHJ电池中发射极的电学性能, 在玻璃上沉积厚度5 nm的 i-a-Si:H, 再沉积15 nm的p型掺杂层, 然后进行相应的电学测试. 图7所示为p型掺杂层载流子浓度、电导率与激活能随掺杂量的变化.

    图 7 不同掺杂量的p型掺杂层的载流子浓度、电导率以及激活能\r\nFig. 7. Carrier density, conductivity and activation energy of p-type layers with different TMB flow rate.
    图 7  不同掺杂量的p型掺杂层的载流子浓度、电导率以及激活能
    Fig. 7.  Carrier density, conductivity and activation energy of p-type layers with different TMB flow rate.

    图7可以看出, 当TMB的流量从0.8 sccm (1 sccm = 1 mL/min)增至1.2 sccm时, 电导率从0.089 S/cm上升至0.175 S/cm, 激活能从0.16 eV 下降至0.07 eV, 载流子浓度从1.42 × 1018 cm–3上升至6.75 × 1018 cm–3, 而当TMB流量继续增加时, 电导率出现明显下降, 激活能上升至0.11 eV, 载流子浓度下降至1.24 × 1018 cm–3. 为进一步验证, 对不同掺杂量的p型掺杂层进行了拉曼测试, 如图8所示.

    图 8 不同掺杂量的p型掺杂层的Raman图谱\r\nFig. 8. Raman spectra of p-type layers with different TMB flow rate.
    图 8  不同掺杂量的p型掺杂层的Raman图谱
    Fig. 8.  Raman spectra of p-type layers with different TMB flow rate.

    图8可以看出, TMB掺杂流量在1.2 sccm之前, 结晶率基本持平, 而当超过1.2 sccm时, 薄膜结晶度下降明显, 原因是掺杂量的增加使得缺陷增加, 同时硼抑制晶化作用进一步加强, 结晶度下降从而导致电导率、载流子浓度下降以及激活能上升[27].

    将上述不同掺杂量的p型掺杂层作为SHJ电池的发射极, 并对相应电池的各个参数进行比较, 结果如图9所示. 从图9可以看出, 当p型掺杂层的掺杂流量从0.8 sccm提升至1.2 sccm时, 开路电压(VOC)从705 mV提升至710 mV, 说明掺杂量的提高使得掺杂层与衬底之间的能带弯曲增加, 而填充因子(FF )从62.07%提升至64.35%, 这归因于掺杂量的提高减小了接触电阻[28,29]. 而当掺杂流量继续上升时, 电池性能出现下降, 尤其是VOC, 这是因为过高的掺杂流量使得p型掺杂层出现过多的缺陷, 掺杂效率降低, 导致电导率下降, 发射极无法在c-Si表面产生足够的能带弯曲, 同时过高的掺杂会增加悬挂键密度, 从而降低了钝化效果[16,30]. 得到的最佳条件为H2∶SiH4∶TMB = 400∶4∶1.2, 此时电池效率达到最高.

    图 9 SHJ电池性能参数随p型掺杂层的掺杂量的变化 (a) VOC; (b) FF; (c) Jsc; (d) Eff\r\nFig. 9. J -V parameters of SHJ solar cells with different TMB flow rates in p-type layers: (a) VOC; (b) FF; (c) Jsc; (d) Eff.
    图 9  SHJ电池性能参数随p型掺杂层的掺杂量的变化 (a) VOC; (b) FF; (c) Jsc; (d) Eff
    Fig. 9.  J -V parameters of SHJ solar cells with different TMB flow rates in p-type layers: (a) VOC; (b) FF; (c) Jsc; (d) Eff.
    3.2.2   后掺杂层对SHJ太阳电池的影响

    通过前面对前掺杂层的优化, 获得了初始效率(Eff )达到17.65%的SHJ太阳电池, 为了进一步获得更大的内建电势以实现有效的电子-空穴分离, 且与ITO有良好的接触, 使得FF与电池效率得到提升[13], 在前述前掺杂层的基础上, 提出如图1(b)所示的双层发射极, 也就是在p/ITO之间加入一层重掺杂的p型掺杂层(p++-nc-Si:H).

    为了保证p++-nc-Si:H的掺杂效率, 从氢稀释比与掺杂量两方面来进行优化. 重掺杂层采用不同氢稀释比时相应的器件性能参数见表1. 在最优氢稀释比下不同掺杂量相应的器件性能参数如表2所列. 由表1可知, 氢稀释比的增加使得电池的效率先增后减, 其中VOC基本没有变化, JSC略有上升, 而FF提升明显, 说明氢稀释比的增加使得掺杂效率上升, 重掺杂改善了ITO与p型掺杂层的接触, 载流子传输特性增强, 因此FF显著增加, 但是过高的氢稀释比使得重掺杂层生长速度减慢, 大量的氢气流量会对前掺杂层造成刻蚀, 这是当氢稀释比RH > 60以后, FF下降的原因. 表2是在最佳氢稀释比的基础上增加掺杂量, 可以看出, TMB流量增加至4.8 sccm时, FFJSC都有小幅度提升, 这是因为掺杂量的增加使得能带进一步弯曲, 增加了少数载流子的隧穿, 同时增大了内建电场, 降低了p/ITO之间的接触电阻, 而当流量增加至5.6 sccm以上时, FF从71.86%下降至63.20%, 说明过高的掺杂使掺杂效率降低, 过多的缺陷使得接触电阻增加, 从而导致FF的大幅度下降[31,32].

    表 1  重掺杂层不同氢稀释比的电池具体参数
    Table 1.  J -V parameters of SHJ solar cells with different hydrogen dilution ratio in the p++-nc-Si:H layer.
    H2∶SiH4∶TMBJSC/mA·cm–2VOC/VFF/%Eff /%
    120∶4∶438.70.70966.5718.26
    160∶4∶438.910.71069.0819.08
    200∶4∶439.150.70970.8419.66
    240∶4∶438.40.70865.5617.8
    下载: 导出CSV 
    | 显示表格
    表 2  重掺杂层不同掺杂量的电池具体参数
    Table 2.  J -V parameters of SHJ solar cells with different TMB flow rate in the p++-nc-Si:H layer.
    H2∶SiH4∶TMBJSC/mA·cm–2VOC/VFF/%Eff/%
    200∶4∶439.150.70970.8419.66
    200∶4∶4.839.370.70871.8620.03
    200∶4∶5.638.790.70969.7119.17
    200∶4∶6.438.70.71063.2017.3
    下载: 导出CSV 
    | 显示表格

    为了研究双层p型发射极有效提升电池性能的原因, 制备出p-nc-Si:H和 p-nc-Si:H/p++-nc-Si:H (重掺杂)两种发射极材料作为对比, 两种材料的厚度均控制为15 nm, 测试了两种不同材料的电导率以及载流子浓度, 测得单层发射极的电导率为0.175 S/cm, 载流子浓度为6.75 × 1018 /cm3, 略低于双层发射极的电导率0.402 S/cm, 载流子浓度2.91 × 1019 /cm3, 说明重掺杂层对材料的电学性能起到了有益的效果, 同时因为沉积p++-nc-Si:H的氢稀释比较低, 为确保整体材料的结晶度, 对两种材料的结晶度进行了Raman图谱的测试, 结果如图10所示. 可以看出, 双层p型发射极的结晶度要略高于单层p型发射极的结晶度, 说明在p-nc-Si:H上沉积的p++-nc-Si:H虽然氢稀释比较低, 但是由于生长在p-nc-Si:H上, 使得薄膜更易结晶.

    图 10 两种不同材料的p型掺杂层的Raman图谱\r\nFig. 10. Raman spectra of single-layer emitter and double-layer emitter.
    图 10  两种不同材料的p型掺杂层的Raman图谱
    Fig. 10.  Raman spectra of single-layer emitter and double-layer emitter.

    将这两种不同的发射极应用在SHJ电池, 结果见图11. 可以看出, 双层p型发射极的JSCFF都要高于单层p型发射极, 填充因子从64.35%提升至71.86%, 原因在于双层的p型发射极改善了与ITO的接触, 增强了内建电场对载流子的迁移能力, 并且重掺杂的p型掺杂层具有较高的掺杂浓度和较高的费米能级, 改善了ITO/p的接触特性. 同时EQE小幅度上升, 且在短波段最为明显, 因为光伏器件对短波的吸收主要集中在窗口层, 而对长波的吸收则集中在硅片上, 当表面窗口层的掺杂浓度为梯度掺杂时, 通过表面的短波光越多, 短波光被c-Si硅片层吸收, 导致光子被转换成更多的载流子[33]. 光吸收的增强提高了载流子的利用效率, 从而有利于提高电池的电流密度.

    图 11 不同p型发射极对应的SHJ电池 (a) J -V特性曲线; (b) EQE曲线\r\nFig. 11. (a) J -V curves and (b) EQE curves of SHJ solar cells with different p-type emitters.
    图 11  不同p型发射极对应的SHJ电池 (a) J -V特性曲线; (b) EQE曲线
    Fig. 11.  (a) J -V curves and (b) EQE curves of SHJ solar cells with different p-type emitters.

    采用本文提出的双层钝化层来提高钝化性能, 双层发射极来提高接触效果, 最终获得了最高效率为20.96%的SHJ太阳电池, 其中VOC为710 mV, JSC为39.88 mA/cm2, FF为74.02%.

    为了验证双层发射极优化器件性能的可重复性, 对双层发射极电池与单层发射极电池进行了统计学分析, 图12为10组不同发射极结构的SHJ太阳电池的光伏参数. 可以看出, 双层发射极结构太阳电池JSC平均值在39.25 mA/cm2左右, VOC平均值在708 mV左右, FF平均值在73%左右, 均高于单层结构的SHJ电池.

    图 12 双层发射级SHJ电池与单层发射极SHJ电池的J -V参数箱线图\r\nFig. 12. Illuminate J -V parameters of SHJ solar cells with double emitter layer and single layer emitter.
    图 12  双层发射级SHJ电池与单层发射极SHJ电池的J -V参数箱线图
    Fig. 12.  Illuminate J -V parameters of SHJ solar cells with double emitter layer and single layer emitter.

    为改善SHJ电池的钝化效果和填充因子, 需要优化钝化层与发射极的工艺, 本文围绕双层钝化层和双层发射极两方面对提升SHJ电池性能展开了研究. 结果表明, 加入缓冲层后, 钝化层少子寿命明显提高, 同时工艺窗口也有一定扩宽. 此外, 轻掺杂的p-nc-Si:H可以减弱掺杂剂向本征钝化层的扩散, 保证良好的钝化效果, 同时重掺杂的p++-nc-Si:H可以提供足够的内建电场, 并改善p/ITO的接触特性, 双层发射极获得了更高的SHJ电池效率. 采用本文提出的双层钝化层和双层发射极, 在商业化制绒的硅片上获得了效率达到20.96%的硅异质结太阳电池.

    [1]

    李志学, 吴硕锋, 雷理钊 2018 价格月刊 12 1Google Scholar

    Li Z X, Wu S F, Lei L Z 2018 Prices Monthly 12 1Google Scholar

    [2]

    陈晨, 张巍, 贾锐, 张代生, 邢钊, 金智, 刘新宇 2013 中国科学 43 708Google Scholar

    Chen C, Zhang W, Jia R, Zhang D S, Xing Z, Jin Z, Liu X Y 2013 Science China 43 708Google Scholar

    [3]

    Rehman A U, Lee S H 2013 Sci. World J. 11 470347Google Scholar

    [4]

    Yoshikawa K, Yoshida W, Irie T, Kawasaki H, Konishi K, Ishibashi H, Asatani T, Adachi D, Kanematsu M, Uzu H, Yamamoto K 2017 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 173 37Google Scholar

    [5]

    Taguchi M, Yano A, Tohoda S, Matsuyama K, Nakamura Y, Nishiwaki T, Fujita K, Maruyama E 2014 IEEE J. Photovoltaics 4 96Google Scholar

    [6]

    Okuda K, Okamoto H, Hamakawa Y 1983 Jpn. J. Appl. Phys. 22 L605Google Scholar

    [7]

    Neumuller A, Sergeev O, Heise S J, Bereznev S, Volobujeva O, Salas J F L, Vehse M, Agert C 2018 Nano Energy 43 228Google Scholar

    [8]

    Geissbuhler J, De Wolf S, Demaurex B, Seif J P, Alexander D T L, Barraud L, Ballif C 2013 Appl. Phys. Lett. 102 23Google Scholar

    [9]

    Mews M, Schulze T F, Mingirulli N, Korte L 2013 Appl. Phys. Lett. 102 122106Google Scholar

    [10]

    Paviet-Salomon B, Tomasi A, Descoeudres A, Barraud L, Nicolay S, Despeisse M, Wolf S D, Ballif C 2015 IEEE J. Photovoltaics 5 1293Google Scholar

    [11]

    Ru X, Qu M, Wang J, Ruan T, Yang M, Peng F, Long W, Zheng K, Yan H, Xu X 2020 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 215 110643Google Scholar

    [12]

    Wu Z, Zhang L, Chen R, Liu W, Li Z, Meng F, Liu Z 2019 Appl. Surf. Sci. 475 504Google Scholar

    [13]

    Korte L, Conrad E, Angermann H, Stangl R, Schmidt M 2009 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 93 905Google Scholar

    [14]

    Ling Z P, Ge J, Mueller T, Wong J, Aberle A G 2012 Energy Procedia 15 118Google Scholar

    [15]

    Pysch D, Meinhard C, Harder N P, Hermle M, Glunz S W 2011 J. Appl. Phys. 110 094516Google Scholar

    [16]

    Lee Y, Kim H, Iftiquar S M, Kim S, Kim S, Ahn S, Lee Y J, Dao V A, Yi J 2014 J. Appl. Phys. 116 244506Google Scholar

    [17]

    Boccard M, Monnard R, Antognini L, Ballif C 2018 AIP Conf. Proc. 1999 040003

    [18]

    Richter A, Smirnov V, Lambertz A, Nomoto K, Welter K, Ding K N 2018 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 174 196Google Scholar

    [19]

    Li Z, Zhang L, Wu Z, Liu W, Chen R, Meng F, Liu Z 2020 J. Appl. Phys. 128 045309Google Scholar

    [20]

    Ding K N, Aeberhard U, Finger F, Rau U 2012 Phys. Status Solidi R 6 193Google Scholar

    [21]

    Mazzarella L, Kirner S, Gabriel O, Schmidt S S, Korte L, Stannowski B, Rech B, Schlatmann R 2017 Phys. Atatus Solidi A 214 1532958Google Scholar

    [22]

    Descoeudres A, Barraud L, De Wolf S, Strahm B, Lachenal D, Guérin C, Holman Z C, Zicarelli F, Demaurex B, Seif J, Holovsky J, Ballif C 2011 Appl. Phys. Lett. 99 123506Google Scholar

    [23]

    Fujiwara H, Kaneko T, Kondo M 2007 Appl. Phys. Lett. 91 133508Google Scholar

    [24]

    De Wolf S, Beaucarne G 2006 Appl. Phys. Lett. 88 022104Google Scholar

    [25]

    De Wolf S, Kondo M 2007 Appl. Phys. Lett. 91 112109Google Scholar

    [26]

    Mazzarella L, Kirner S, Stannowski B, Korte L, Rech B, Schlatmann R 2015 Appl. Phys. Lett. 106 023902Google Scholar

    [27]

    张晓丹, 赵颖, 高艳涛, 陈飞, 朱锋, 魏长春, 孙建, 耿新华 2006 物理学报 55 6697Google Scholar

    Zhang X D, Zhao Y, Gao Y T, Chen F, Zhu F, Wei C C, Sun J, Geng X H 2006 Acta Phys. Sin. 55 6697Google Scholar

    [28]

    Mews M, Liebhaber M, Rech B, Korte L 2015 Appl. Phys. Lett. 107 013902Google Scholar

    [29]

    Kanevce A, Metzger W K 2009 J. Appl. Phys. 105 094507Google Scholar

    [30]

    Madani Ghahfarokhi O, von Maydell K, Agert C 2014 Appl. Phys. Lett. 104 113901Google Scholar

    [31]

    Mishima T, Taguchi M, Sakata H, Maruyama E 2011 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 95 18Google Scholar

    [32]

    Masuko K, Shigematsu M, Hashiguchi T, Fujishima D, Kai M, Yoshimura N, Yamaguchi T, Ichihashi Y, Mishima T, Matsubara N, Yamanishi T, Takahama T, Taguchi M, Maruyama E, Okamoto S 2014 IEEE J. Photovoltaics 4 1433Google Scholar

    [33]

    Hao L C, Zhang M, Ni M, Shen X L, Feng X D 2019 J. Electron. Mater. 48 4688Google Scholar

    期刊类型引用(1)

    1. 郭志坚, 孙乾. 氢原子在少周期强激光场中阈上电离的电子波包干涉图像. 中国光学. 2019(06): 1376-1384 . 百度学术

    其他类型引用(0)

  • 图 1  (a)含双层钝化层的SHJ电池示意图; (b)含双层发射极的SHJ电池示意图

    Fig. 1.  (a) Schematic diagram of the SHJ solar cell with the double passivation layer; (b) schematic diagram of the SHJ solar cell with the double emitting layer.

    图 2  不同氢稀释比的单层钝化层的少子寿命和iVOC的变化趋势

    Fig. 2.  Minority carrier lifetime and variation trend of iVOC in single passivation layer with different hydrogen dilution ratio.

    图 3  (a)常规钝化层的FTIR图; (b)缓冲层的FTIR图谱

    Fig. 3.  FTIR spectra of (a) conventional passivation layers and (b) buffer passivation layers.

    图 4  不同厚度缓冲层的少子寿命和iVOC的变化趋势

    Fig. 4.  Minority carrier lifetime and iVOC of samples with different thicknesses of buffer layer.

    图 5  不同氢稀释比的双层钝化层的少子寿命与iVOC的变化趋势

    Fig. 5.  Minority carrier lifetimes and iVOC of samples of double passivation layer for different hydrogen dilution ratio.

    图 6  双层钝化层与单层钝化层的少子寿命箱线图

    Fig. 6.  Minority carrier lifetimes of samples with double passivation layers or single passivation layers.

    图 7  不同掺杂量的p型掺杂层的载流子浓度、电导率以及激活能

    Fig. 7.  Carrier density, conductivity and activation energy of p-type layers with different TMB flow rate.

    图 8  不同掺杂量的p型掺杂层的Raman图谱

    Fig. 8.  Raman spectra of p-type layers with different TMB flow rate.

    图 9  SHJ电池性能参数随p型掺杂层的掺杂量的变化 (a) VOC; (b) FF; (c) Jsc; (d) Eff

    Fig. 9.  J -V parameters of SHJ solar cells with different TMB flow rates in p-type layers: (a) VOC; (b) FF; (c) Jsc; (d) Eff.

    图 10  两种不同材料的p型掺杂层的Raman图谱

    Fig. 10.  Raman spectra of single-layer emitter and double-layer emitter.

    图 11  不同p型发射极对应的SHJ电池 (a) J -V特性曲线; (b) EQE曲线

    Fig. 11.  (a) J -V curves and (b) EQE curves of SHJ solar cells with different p-type emitters.

    图 12  双层发射级SHJ电池与单层发射极SHJ电池的J -V参数箱线图

    Fig. 12.  Illuminate J -V parameters of SHJ solar cells with double emitter layer and single layer emitter.

    表 1  重掺杂层不同氢稀释比的电池具体参数

    Table 1.  J -V parameters of SHJ solar cells with different hydrogen dilution ratio in the p++-nc-Si:H layer.

    H2∶SiH4∶TMBJSC/mA·cm–2VOC/VFF/%Eff /%
    120∶4∶438.70.70966.5718.26
    160∶4∶438.910.71069.0819.08
    200∶4∶439.150.70970.8419.66
    240∶4∶438.40.70865.5617.8
    下载: 导出CSV

    表 2  重掺杂层不同掺杂量的电池具体参数

    Table 2.  J -V parameters of SHJ solar cells with different TMB flow rate in the p++-nc-Si:H layer.

    H2∶SiH4∶TMBJSC/mA·cm–2VOC/VFF/%Eff/%
    200∶4∶439.150.70970.8419.66
    200∶4∶4.839.370.70871.8620.03
    200∶4∶5.638.790.70969.7119.17
    200∶4∶6.438.70.71063.2017.3
    下载: 导出CSV
  • [1]

    李志学, 吴硕锋, 雷理钊 2018 价格月刊 12 1Google Scholar

    Li Z X, Wu S F, Lei L Z 2018 Prices Monthly 12 1Google Scholar

    [2]

    陈晨, 张巍, 贾锐, 张代生, 邢钊, 金智, 刘新宇 2013 中国科学 43 708Google Scholar

    Chen C, Zhang W, Jia R, Zhang D S, Xing Z, Jin Z, Liu X Y 2013 Science China 43 708Google Scholar

    [3]

    Rehman A U, Lee S H 2013 Sci. World J. 11 470347Google Scholar

    [4]

    Yoshikawa K, Yoshida W, Irie T, Kawasaki H, Konishi K, Ishibashi H, Asatani T, Adachi D, Kanematsu M, Uzu H, Yamamoto K 2017 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 173 37Google Scholar

    [5]

    Taguchi M, Yano A, Tohoda S, Matsuyama K, Nakamura Y, Nishiwaki T, Fujita K, Maruyama E 2014 IEEE J. Photovoltaics 4 96Google Scholar

    [6]

    Okuda K, Okamoto H, Hamakawa Y 1983 Jpn. J. Appl. Phys. 22 L605Google Scholar

    [7]

    Neumuller A, Sergeev O, Heise S J, Bereznev S, Volobujeva O, Salas J F L, Vehse M, Agert C 2018 Nano Energy 43 228Google Scholar

    [8]

    Geissbuhler J, De Wolf S, Demaurex B, Seif J P, Alexander D T L, Barraud L, Ballif C 2013 Appl. Phys. Lett. 102 23Google Scholar

    [9]

    Mews M, Schulze T F, Mingirulli N, Korte L 2013 Appl. Phys. Lett. 102 122106Google Scholar

    [10]

    Paviet-Salomon B, Tomasi A, Descoeudres A, Barraud L, Nicolay S, Despeisse M, Wolf S D, Ballif C 2015 IEEE J. Photovoltaics 5 1293Google Scholar

    [11]

    Ru X, Qu M, Wang J, Ruan T, Yang M, Peng F, Long W, Zheng K, Yan H, Xu X 2020 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 215 110643Google Scholar

    [12]

    Wu Z, Zhang L, Chen R, Liu W, Li Z, Meng F, Liu Z 2019 Appl. Surf. Sci. 475 504Google Scholar

    [13]

    Korte L, Conrad E, Angermann H, Stangl R, Schmidt M 2009 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 93 905Google Scholar

    [14]

    Ling Z P, Ge J, Mueller T, Wong J, Aberle A G 2012 Energy Procedia 15 118Google Scholar

    [15]

    Pysch D, Meinhard C, Harder N P, Hermle M, Glunz S W 2011 J. Appl. Phys. 110 094516Google Scholar

    [16]

    Lee Y, Kim H, Iftiquar S M, Kim S, Kim S, Ahn S, Lee Y J, Dao V A, Yi J 2014 J. Appl. Phys. 116 244506Google Scholar

    [17]

    Boccard M, Monnard R, Antognini L, Ballif C 2018 AIP Conf. Proc. 1999 040003

    [18]

    Richter A, Smirnov V, Lambertz A, Nomoto K, Welter K, Ding K N 2018 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 174 196Google Scholar

    [19]

    Li Z, Zhang L, Wu Z, Liu W, Chen R, Meng F, Liu Z 2020 J. Appl. Phys. 128 045309Google Scholar

    [20]

    Ding K N, Aeberhard U, Finger F, Rau U 2012 Phys. Status Solidi R 6 193Google Scholar

    [21]

    Mazzarella L, Kirner S, Gabriel O, Schmidt S S, Korte L, Stannowski B, Rech B, Schlatmann R 2017 Phys. Atatus Solidi A 214 1532958Google Scholar

    [22]

    Descoeudres A, Barraud L, De Wolf S, Strahm B, Lachenal D, Guérin C, Holman Z C, Zicarelli F, Demaurex B, Seif J, Holovsky J, Ballif C 2011 Appl. Phys. Lett. 99 123506Google Scholar

    [23]

    Fujiwara H, Kaneko T, Kondo M 2007 Appl. Phys. Lett. 91 133508Google Scholar

    [24]

    De Wolf S, Beaucarne G 2006 Appl. Phys. Lett. 88 022104Google Scholar

    [25]

    De Wolf S, Kondo M 2007 Appl. Phys. Lett. 91 112109Google Scholar

    [26]

    Mazzarella L, Kirner S, Stannowski B, Korte L, Rech B, Schlatmann R 2015 Appl. Phys. Lett. 106 023902Google Scholar

    [27]

    张晓丹, 赵颖, 高艳涛, 陈飞, 朱锋, 魏长春, 孙建, 耿新华 2006 物理学报 55 6697Google Scholar

    Zhang X D, Zhao Y, Gao Y T, Chen F, Zhu F, Wei C C, Sun J, Geng X H 2006 Acta Phys. Sin. 55 6697Google Scholar

    [28]

    Mews M, Liebhaber M, Rech B, Korte L 2015 Appl. Phys. Lett. 107 013902Google Scholar

    [29]

    Kanevce A, Metzger W K 2009 J. Appl. Phys. 105 094507Google Scholar

    [30]

    Madani Ghahfarokhi O, von Maydell K, Agert C 2014 Appl. Phys. Lett. 104 113901Google Scholar

    [31]

    Mishima T, Taguchi M, Sakata H, Maruyama E 2011 Sol. Energy Mater. Sol. Cells 95 18Google Scholar

    [32]

    Masuko K, Shigematsu M, Hashiguchi T, Fujishima D, Kai M, Yoshimura N, Yamaguchi T, Ichihashi Y, Mishima T, Matsubara N, Yamanishi T, Takahama T, Taguchi M, Maruyama E, Okamoto S 2014 IEEE J. Photovoltaics 4 1433Google Scholar

    [33]

    Hao L C, Zhang M, Ni M, Shen X L, Feng X D 2019 J. Electron. Mater. 48 4688Google Scholar

  • [1] 袁赫泽, 陈新亮, 梁柄权, 孙爱鑫, 王雪骄, 赵颖, 张晓丹. 晶硅太阳电池钝化层技术研究进展. 物理学报, 2025, 74(4): 047801. doi: 10.7498/aps.74.20241292
    [2] 许畅, 郑德旭, 董心睿, 吴飒建, 武明星, 王开, 刘生忠. 钙钛矿基三结叠层太阳电池的研究进展. 物理学报, 2024, 73(24): 248802. doi: 10.7498/aps.73.20241187
    [3] 肖忆瑶, 何佳豪, 陈南锟, 王超, 宋宁宁. 基于负载Fe3O4纳米微球的大尺寸单层二维Ti3C2Tx微波吸收性能. 物理学报, 2023, 72(21): 217501. doi: 10.7498/aps.72.20231200
    [4] 赵建宁, 魏东, 吕国正, 王子成, 刘冬欢. 一维异质结构的瞬态热整流效应. 物理学报, 2023, 72(4): 044401. doi: 10.7498/aps.72.20222085
    [5] 王琛, 温盼, 彭聪, 徐萌, 陈龙龙, 李喜峰, 张建华. 钝化层对背沟道刻蚀型IGZO薄膜晶体管的影响. 物理学报, 2023, 72(8): 087302. doi: 10.7498/aps.72.20222272
    [6] 曹宇, 刘超颖, 赵耀, 那艳玲, 江崇旭, 王长刚, 周静, 于皓. 双电子传输层结构硫硒化锑太阳电池的界面特性优化. 物理学报, 2022, 71(3): 038802. doi: 10.7498/aps.71.20211525
    [7] 王其, 延玲玲, 陈兵兵, 李仁杰, 王三龙, 王鹏阳, 黄茜, 许盛之, 侯国付, 陈新亮, 李跃龙, 丁毅, 张德坤, 王广才, 赵颖, 张晓丹. 钙钛矿/硅异质结叠层太阳电池: 光学模拟的研究进展. 物理学报, 2021, 70(5): 057802. doi: 10.7498/aps.70.20201585
    [8] 陈俊帆, 任慧志, 侯福华, 周忠信, 任千尚, 张德坤, 魏长春, 张晓丹, 侯国付, 赵颖. 钙钛矿/硅叠层太阳电池中平面a-Si:H/c-Si异质结底电池的钝化优化及性能提高. 物理学报, 2019, 68(2): 028101. doi: 10.7498/aps.68.20181759
    [9] 檀满林, 周丹丹, 符冬菊, 张维丽, 马清, 李冬霜, 陈建军, 张化宇, 王根平. 基于BiFeO3/ITO复合膜表面钝化的黑硅太阳电池性能研究. 物理学报, 2017, 66(16): 167701. doi: 10.7498/aps.66.167701
    [10] 张晓宇, 张丽平, 马忠权, 刘正新. 硅锗量子阱结构在硅异质结太阳电池中应用的数值模拟. 物理学报, 2016, 65(13): 138801. doi: 10.7498/aps.65.138801
    [11] 於黄忠. 有机共混结构叠层太阳电池的研究进展. 物理学报, 2013, 62(2): 027201. doi: 10.7498/aps.62.027201
    [12] 薛源, 郜超军, 谷锦华, 冯亚阳, 杨仕娥, 卢景霄, 黄强, 冯志强. 薄膜硅/晶体硅异质结电池中本征硅薄膜钝化层的性质及光发射谱研究. 物理学报, 2013, 62(19): 197301. doi: 10.7498/aps.62.197301
    [13] 曹宇, 张建军, 李天微, 黄振华, 马峻, 倪牮, 耿新华, 赵颖. 微晶硅锗太阳电池本征层纵向结构的优化. 物理学报, 2013, 62(3): 036102. doi: 10.7498/aps.62.036102
    [14] 郑雪, 余学功, 杨德仁. -Si:H/SiNx叠层薄膜对晶体硅太阳电池的钝化. 物理学报, 2013, 62(19): 198801. doi: 10.7498/aps.62.198801
    [15] 张晓丹, 郑新霞, 王光红, 许盛之, 岳强, 林泉, 魏长春, 孙建, 张德坤, 熊绍珍, 耿新华, 赵颖. 单室沉积高效非晶硅/微晶硅叠层太阳电池的研究. 物理学报, 2010, 59(11): 8231-8236. doi: 10.7498/aps.59.8231
    [16] 孙明昭, 张淳民, 宋晓平. 新型八边形谐振环金属线复合周期结构左手材料奇异性质研究. 物理学报, 2010, 59(8): 5444-5449. doi: 10.7498/aps.59.5444
    [17] 周骏, 邸明东, 孙铁囤, 孙永堂, 汪昊. 界面缺陷态密度与衬底电阻率取值对硅异质结光伏电池性能的影响. 物理学报, 2010, 59(12): 8870-8876. doi: 10.7498/aps.59.8870
    [18] 孟利军, 肖化平, 唐超, 张凯旺, 钟建新. 碳纳米管-硅纳米线复合结构的形成和热稳定性. 物理学报, 2009, 58(11): 7781-7786. doi: 10.7498/aps.58.7781
    [19] 袁育杰, 侯国付, 薛俊明, 韩晓艳, 刘云周, 杨兴云, 刘丽杰, 董 培, 赵 颖, 耿新华. 微晶硅n-i-p太阳电池中n型掺杂层对本征层结构特性的影响. 物理学报, 2008, 57(6): 3892-3897. doi: 10.7498/aps.57.3892
    [20] 赵 雷, 周春兰, 李海玲, 刁宏伟, 王文静. a-Si(n)/c-Si(p)异质结太阳电池薄膜硅背场的模拟优化. 物理学报, 2008, 57(5): 3212-3218. doi: 10.7498/aps.57.3212
  • 期刊类型引用(1)

    1. 郭志坚, 孙乾. 氢原子在少周期强激光场中阈上电离的电子波包干涉图像. 中国光学. 2019(06): 1376-1384 . 百度学术

    其他类型引用(0)

计量
  • 文章访问数:  9139
  • PDF下载量:  306
  • 被引次数: 1
出版历程
  • 收稿日期:  2021-04-10
  • 修回日期:  2021-05-18
  • 上网日期:  2021-06-07
  • 刊出日期:  2021-09-20

/

返回文章
返回