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低能离子注入形成氮化硅薄膜特性的研究

陈国明 陈国樑 杨絜 邹世昌

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低能离子注入形成氮化硅薄膜特性的研究

陈国明, 陈国樑, 杨絜, 邹世昌

INVESTIGATION OF THIN FILM Si3N4 FORMED BY LOW ENERGY ION IMPLANTATION

CHEN GUO-MING, CHEN GUO-LIANG, YANG JIE, ZOU SHI-CHANG
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出版历程
  • 收稿日期:  1987-05-18
  • 刊出日期:  2005-07-05

低能离子注入形成氮化硅薄膜特性的研究

  • 1. 中国科学院上海冶金研究所

摘要: 低能离子束与表面相互作用主要呈现溅射、注入等现象。本文研究了在1.35keVN2+离子注入形成氮化硅的特性,并研究了注入和溅射的并存过程。在高剂量、低能(<10keV)注入的情况下,提出了有效剂量的概念,并建立了刻蚀速率、射程与有效注入剂量的关系。还用俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、背散射分析(RBS)测定了薄膜的有关特性。

English Abstract

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