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												doi: 10.7498/aps.65.206102
											
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												doi: 10.7498/aps.63.176101
											
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										朱贺, 张兵坡, 王淼, 胡古今, 戴宁, 吴惠桢. 高剂量As离子注入对高阻Si电学特性的影响. 物理学报,
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												doi: 10.7498/aps.63.136803
											
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										王茺, 杨宇, 杨瑞东, 李亮, 韦冬, 靳映霞, Bao Ji-Ming. 绝缘氧化层上自离子注入Si薄膜W线发光性能的调控. 物理学报,
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												doi: 10.7498/aps.60.106104
											
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										王军转, 石卓琼, 娄昊楠, 章新栾, 左则文, 濮林, 马恩, 张荣, 郑有炓, 陆昉, 施毅. 掺铒Si/Al2O3多层结构中结晶形态对1.54 μm发光的影响. 物理学报,
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										王培录, 刘仲阳, 郑思孝, 廖小东, 杨朝文, 唐阿友, 师勉恭, 杨百方, 缪竞威. 氮原子、分子与团簇离子注入Si(111)的特性研究. 物理学报,
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										王引书, 李晋闽, 金运范, 王玉田, 林兰英. 不同剂量C离子注入Si单晶中Si1-xCx合金的形成及其特征. 物理学报,
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