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等离子体增强反应蒸发沉积的氟掺杂氧化铟薄膜的性质

程珊华 宁兆元 黄峰

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等离子体增强反应蒸发沉积的氟掺杂氧化铟薄膜的性质

程珊华, 宁兆元, 黄峰

Cheng Shan-Hua, Ning Zhao-Yuan, Huang Feng
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-05-20
  • 修回日期:  2001-07-10
  • 刊出日期:  2005-04-03

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