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沉积速率和氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响

岑忞 章岳光 陈卫兰 顾培夫

引用本文:
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沉积速率和氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响

岑忞, 章岳光, 陈卫兰, 顾培夫

Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress of HfO2 films

Cen Min, Zhang Yue-Guang, Chen Wei-Lan, Gu Pei-Fu
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-11-17
  • 修回日期:  2009-02-03
  • 刊出日期:  2009-05-05

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