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Ta和TaN底电极对原子层淀积HfO2介质MIM电性能的影响

许军 黄宇健 丁士进 张卫

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Ta和TaN底电极对原子层淀积HfO2介质MIM电性能的影响

许军, 黄宇健, 丁士进, 张卫

Influence of Ta and TaN bottom electrodes on electrical performances of MIM capacitors with atomic-layer-deposited HfO2 dielectric

Xu Jun, Huang Yu-Jian, Ding Shi-Jin, Zhang Wei
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-06-02
  • 修回日期:  2008-09-09
  • 刊出日期:  2009-05-20

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