电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

侯海虹; 孙喜莲; 申雁鸣; 邵建达; 范正修; 易  葵

doi:10.7498/aps.55.3124

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电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

侯海虹 , 孙喜莲 , 申雁鸣 , 邵建达 , 范正修 , 易葵

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电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

侯海虹, 孙喜莲, 申雁鸣, 邵建达, 范正修, 易葵

物理学报, 2006, 55(6): 3124-3127.

doi: 10.7498/aps.55.3124

Roughness and light scattering properties of ZrO2 thin films deposited by electron beam evaporation

Hou Hai-Hong, Sun Xi-Lian, Shen Yan-Ming, Shao Jian-Da, Fan Zheng-Xiu, Yi Kui

Acta Phys. Sin., 2006, 55(6): 3124-3127.

doi: 10.7498/aps.55.3124

摘要
利用电子束蒸发工艺，以Ag层为衬底，沉积了中心波长为632.8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜，膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现，随着膜层厚度的逐渐增加，其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算，所得结果与测量结果相一致.

关键词:
氧化锆 /

表面粗糙度 /

标量散射 /

电子束蒸发
Abstract
Zirconium oxide (ZrO2) coatings for 632.8nm center wavelength were deposited on the Ag layer by electron beam evaporation, optical thickness of which varied in the range of 80—480nm. Surface roughness and scattering characteristics of ZrO2 coatings with different thickness were investigated. It was found that with the gradually increase of the thickness, both roughness and total integrated scattering (TIS) of the samples decreased firstly and then increased. These results indicated that TIS of the samples mainly depended on the surface roughness. According to the uncorrelated surface roughness scattering model, scattering properties of the samples were analyzed theoretically. The calculated TIS values based on this model agreed well with that obtained by TIS measurements.

Keywords:
ZiO2 coatings /

surface roughness /

scalar scattering /

electron beam evaporation
作者及机构信息
侯海虹²,

孙喜莲²,

申雁鸣²,

邵建达¹,

范正修¹,

易葵¹

(1)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800;中国科学院研究生院，北京 100039
Authors and contacts
Hou Hai-Hong²,

Sun Xi-Lian²,

Shen Yan-Ming²,

Shao Jian-Da¹,

Fan Zheng-Xiu¹,

Yi Kui¹

(1)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800;中国科学院研究生院，北京 100039
参考文献

施引文献

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[17]	刘亮, 马小柏, 聂瑞娟, 姚丹, 王福仁. Mg/B多层膜退火法中不同制备条件对MgB2超导薄膜性质的影响. 物理学报, 2009, 58(11): 7966-7971. doi: 10.7498/aps.58.7966
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[19]	周炳卿, 刘丰珍, 朱美芳, 周玉琴, 吴忠华, 陈兴. 微晶硅薄膜的表面粗糙度及其生长机制的X射线掠角反射研究. 物理学报, 2007, 56(4): 2422-2427. doi: 10.7498/aps.56.2422
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物理学报. 2006, 55(6): 3124-3127.

doi: 10.7498/aps.55.3124.

电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

1. (1)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800;中国科学院研究生院，北京 100039

收稿日期: 2005-07-20
修回日期: 2005-12-12
刊出日期: 2006-03-05

摘要: 利用电子束蒸发工艺，以Ag层为衬底，沉积了中心波长为632.8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜，膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现，随着膜层厚度的逐渐增加，其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算，所得结果与测量结果相一致.

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(1)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800;中国科学院研究生院，北京 100039

Authors and contacts

(1)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800;中国科学院研究生院，北京 100039

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(1)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800;中国科学院研究生院，北京 100039

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Roughness and light scattering properties of ZrO2 thin films deposited by electron beam evaporation

1. (1)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800;中国科学院研究生院，北京 100039

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