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电解有机溶液法在Si表面制备类金刚石薄膜及退火对其结构的影响

郭栋 蔡锴 李龙土 桂治轮

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电解有机溶液法在Si表面制备类金刚石薄膜及退火对其结构的影响

郭栋, 蔡锴, 李龙土, 桂治轮

ELECTRODEPOSITION OF DIAMOND-LIKE CARBON FILMS FROM ORGANIC SOLVENTS AND EFFECTS OF ANNEALING ON THE FILM STRUCTURE

GUO DONG, CAI KAI, LI LONG-TU, GUI ZHI-LUN
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-02-21
  • 修回日期:  2001-07-06
  • 刊出日期:  2001-06-05

电解有机溶液法在Si表面制备类金刚石薄膜及退火对其结构的影响

  • 1. 清华大学材料科学与工程系,北京100084
    基金项目: 国家自然科学基金(批准号:59882001)资助的课题.

摘要: 在对不同有机溶剂分子结构分析的基础上,选取甲醇、DMF(N,N-二甲基甲酰胺)和乙腈溶液为碳源,以脉冲直流电源电解有机溶液的方法在Si片上制得了含氢类金刚石薄膜(DLC薄膜),并研究了退火对薄膜结构的影响.通过X射线光电子能谱(XPS),喇曼(Raman)和红外(IR)光谱对薄膜的结构进行了分析表征.XPS表明薄膜的主要成分为C,喇曼光谱显示所得薄膜为典型DLC薄膜.喇曼和红外光谱还表明,膜中含有大量H并且主要键合于sp3碳处.随着退火的进行薄膜中的H被去除.随温度升高薄膜电阻率的下

English Abstract

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