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NH3退火热氮化SiO2薄膜及其与Si界面特性的研究

齐鸣 罗晋生

NH3退火热氮化SiO2薄膜及其与Si界面特性的研究

齐鸣, 罗晋生
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出版历程
  • 收稿日期:  1987-12-19
  • 刊出日期:  2005-07-06

NH3退火热氮化SiO2薄膜及其与Si界面特性的研究

  • 1. 西安交通大学电子工程系

摘要: 采用不同方法研究了NH3中高温退火所形成的氮化SiO2薄膜及其界面特性,发现不同的退火条件对样品的组份、折射率、电子陷阱特性、表面电子迁移率、固定正电荷及界面态密度等有较大的影响。探讨了氮化机理及其对界面特性等的影响。分析了抗氧化机构。

English Abstract

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