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用磁控溅射和真空硒化退火方法制备高质量的铜铟硒多晶薄膜

谢大弢 赵夔 王莉芳 朱凤 全胜文 孟铁军 张保澄 陈佳洱

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用磁控溅射和真空硒化退火方法制备高质量的铜铟硒多晶薄膜

谢大弢, 赵夔, 王莉芳, 朱凤, 全胜文, 孟铁军, 张保澄, 陈佳洱

Xie Da-Tao, Zhao-Xie, Wang Li-Fang, Zhu Feng, Quan Sheng-Wen, Meng Tie-Jun, Zhang Bao-Cheng, Chen Jia-Er
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-11-01
  • 修回日期:  2002-01-30
  • 刊出日期:  2002-03-05

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