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快速热退火和氢等离子体处理对富硅氧化硅薄膜微结构与发光的影响

王永谦 陈维德 陈长勇 刁宏伟 张世斌 徐艳月 孔光临 廖显伯

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快速热退火和氢等离子体处理对富硅氧化硅薄膜微结构与发光的影响

王永谦, 陈维德, 陈长勇, 刁宏伟, 张世斌, 徐艳月, 孔光临, 廖显伯

Wang Yong-Qian, Chen Wei-De, Chen Chang-Yong, Diao Hong-Wei, Zhang Shi-Ben, Xu Yan-Yue, Kong Guang-Lin, Liao Xian-Bo
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-09-12
  • 修回日期:  2001-12-19
  • 刊出日期:  2005-05-30

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