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纳米Cu3N薄膜的制备与性能

吴志国 张伟伟 白利峰 王 君 阎鹏勋

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纳米Cu3N薄膜的制备与性能

吴志国, 张伟伟, 白利峰, 王 君, 阎鹏勋

Preparation and properties of nano-structure Cu33N thin films

Wu Zhi-Guo, Zhang Wei-Wei, Bai Li-Feng, Wang Jun, Yan Peng-Xun
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-12-23
  • 修回日期:  2004-12-15
  • 刊出日期:  2005-02-05

纳米Cu3N薄膜的制备与性能

  • 1. 兰州大学等离子体与金属材料研究所,兰州 730000
    基金项目: 甘肃省自然科学基金重点项目(批准号:ZS021-A25-022-C)资助的课题.

摘要: 采用柱状靶多弧直流磁控溅射法,100℃基底温度下在玻璃衬底上制备了纳米氮化铜(Cu33N)薄膜.用x射线衍射研究了不同氮气分压对Cu33N薄膜晶体结构 及晶粒尺寸的影响.结果显 示薄膜由Cu33N和Cu的纳米微晶复合而成,其中Cu33N纳米微晶具有 立方反ReO33结构.通 过原子力显微镜对薄膜表征显示,膜表面比较光滑,具有较低的粗糙度.x射线光电子能谱对 薄膜表面的成分分析表明,Cu3

English Abstract

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