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双频容性耦合等离子体密度径向均匀性研究

蒋相站 刘永新 毕振华 陆文琪 王友年

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双频容性耦合等离子体密度径向均匀性研究

蒋相站, 刘永新, 毕振华, 陆文琪, 王友年

Radial density uniformity of dual frequency capacitively coupled plasma

Jiang Xiang-Zhan, Liu Yong-Xin, Bi Zhen-Hua, Lu Wen-Qi, Wang You-Nian
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  • 利用自主研制的全悬浮双探针, 对影响双频容性耦合等离子体径向均匀性的因素进行了研究. 发现低频功率、放电气压和放电间距对径向均匀性有明显影响. 合适的低频功率、放电气压及较大的极板间距可以得到更均匀的等离子体. 采用与实验相同的放电参数, 利用改进的二维流体模型进行理论模拟, 得到了不同极板间距下径向离子密度分布, 并和实验测量结果进行了比较, 两者的变化趋势基本符合.
    The influences on dual frequency capacitively coupled plasma radial uniformity are studied with a newly developed complete floating double probe. It is found that low frequency power, discharge pressure and gap have significant effects on radial uniformity. The results show that a suitable low frequency power, discharge pressure and larger discharge gap can achieve more uniform plasma. Finally, the improved two-dimensional fluid model simulations are performed with the same discharge parameters in experiment. The radial ion density distributions are obtained for different discharge gaps. The results are almost consistent with each other.
    • 基金项目: 国家自然科学基金重点项目(批准号: 10635010)资助的课题.
    • Funds: Project supported by the Key Program of the National Natural Science Foundation of China (Grant No. 10635010).
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-12-14
  • 修回日期:  2011-02-04
  • 刊出日期:  2012-01-05

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