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射频溅射Pd薄膜的电阻率研究

施一生 赵特秀 刘洪图 王晓平

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射频溅射Pd薄膜的电阻率研究

施一生, 赵特秀, 刘洪图, 王晓平

A STUDY ON ELECTRICAL RESISTIVITY OF RF SPUTTERING Pd FILMS

SHI YI-SHENG, ZHAO TE-XIU, LIU HONG-TU, WANG XIAO-PING
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出版历程
  • 收稿日期:  1989-12-25
  • 刊出日期:  2005-03-20

射频溅射Pd薄膜的电阻率研究

  • 1. 中国科学技术大学物理系,合肥,230026
    基金项目: 中国科学技术大学结构分析开放实验室基金资助的课题

摘要: 本文研究了溅射Pd薄膜的电阻率与膜厚关系和不同溅射功率下Pd薄膜电阻率,结果表明,电阻率与膜厚的关系与现有的薄膜电阻率尺寸效应的理论基本相符,存在的差异主要是由溅射对衬底温度影响而引起的,并显示玻璃衬底上生长膜也有择优取向,溅射功率的变化对电阻率有一定的影响,进一步讨论溅射过程中衬底温度变化的问题,得出膜电阻率随衬底温度变化的定量关系式。

English Abstract

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