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反应溅射a-SiCxNy∶H薄膜特性

吴现成 王印月

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反应溅射a-SiCxNy∶H薄膜特性

吴现成, 王印月

PROPERTIES OF a-SiCxNy∶H FILMS PRODUCED BY REACTIVE-SPUTTERING

WU XIAN-CHENG, WANG YIN-YUE
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出版历程
  • 收稿日期:  1998-03-26
  • 修回日期:  1998-07-30
  • 刊出日期:  1999-01-20

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