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电感耦合等离子体CVD低温生长硅薄膜过程中的铝诱导晶化

王晓强 栗军帅 陈 强 祁 菁 尹 旻 贺德衍

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电感耦合等离子体CVD低温生长硅薄膜过程中的铝诱导晶化

王晓强, 栗军帅, 陈 强, 祁 菁, 尹 旻, 贺德衍

Aluminum-induced crystallization during deposition of silicon films by inductively coupled plasma CVD

Wang Xiao-Qiang, Li Jun-Shuai, Chen Qiang, Qi Jing, Yin Min, He De-Yan
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-03-05
  • 修回日期:  2004-06-11
  • 刊出日期:  2005-01-19

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