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二次离子质谱深度剖面分析氢化微晶硅薄膜中的氧污染

张晓丹 赵 颖 朱 锋 魏长春 麦耀华 高艳涛 孙 建 耿新华 熊绍珍

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二次离子质谱深度剖面分析氢化微晶硅薄膜中的氧污染

张晓丹, 赵 颖, 朱 锋, 魏长春, 麦耀华, 高艳涛, 孙 建, 耿新华, 熊绍珍

Secondary ion mass spectroscopic depth profile analysis of oxygen contamination in hydrogenated microcrystalline silicon

Zhang Xiao-Dan, Zhao Ying, Zhu Feng, Wei Chang-Chun, Mai Yao-Hua, Gao Yan-Tao, Sun Jian, Geng Xin-Hua, Xiong Shao-Zhen
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-07-15
  • 修回日期:  2004-11-03
  • 刊出日期:  2005-02-05

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