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高压PECVD技术沉积硅基薄膜过程中硅烷状态的研究

侯国付 薛俊明 孙 建 郭群超 张德坤 任慧志 赵 颖 耿新华 李乙钢

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高压PECVD技术沉积硅基薄膜过程中硅烷状态的研究

侯国付, 薛俊明, 孙 建, 郭群超, 张德坤, 任慧志, 赵 颖, 耿新华, 李乙钢

Research on silane depletion status during the deposition of silicon thin films by high-pressure PECVD

Hou Guo-Fu, Xue Jun-Ming, Sun Jian, Guo Qun-Chao, Zhang De-Kun, Ren Hui-Zhi, Zhao Ying, Geng Xin-Hua, Li Yi-Gang
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-01-23
  • 修回日期:  2006-07-05
  • 刊出日期:  2007-01-05

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