[1] |
谭再上, 吴小蒙, 范仲勇, 丁士进. 热退火对等离子体增强化学气相沉积SiCOH薄膜结构与性能的影响. 物理学报,
2015, 64(10): 107701.
doi: 10.7498/aps.64.107701
|
[2] |
何素明, 戴珊珊, 罗向东, 张波, 王金斌. 等离子体增强化学气相沉积工艺制备SiON膜及对硅的钝化. 物理学报,
2014, 63(12): 128102.
doi: 10.7498/aps.63.128102
|
[3] |
杨发展, 沈丽如, 王世庆, 唐德礼, 金凡亚, 刘海峰. 等离子体增强化学气相沉积法制备含氢类金刚石膜的紫外Raman光谱和X射线光电子能谱研究. 物理学报,
2013, 62(1): 017802.
doi: 10.7498/aps.62.017802
|
[4] |
侯国付, 薛俊明, 袁育杰, 张晓丹, 孙建, 陈新亮, 耿新华, 赵颖. 高压射频等离子体增强化学气相沉积制备高效率硅薄膜电池的若干关键问题研究. 物理学报,
2012, 61(5): 058403.
doi: 10.7498/aps.61.058403
|
[5] |
丁艳丽, 朱志立, 谷锦华, 史新伟, 杨仕娥, 郜小勇, 陈永生, 卢景霄. 沉积速率对甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜生长标度行为的影响. 物理学报,
2010, 59(2): 1190-1195.
doi: 10.7498/aps.59.1190
|
[6] |
李宇杰, 谢凯, 李效东, 许静, 韩喻, 杜盼盼. 低温等离子体增强化学气相沉积法制备Ge反opal三维光子晶体及其光学性能. 物理学报,
2010, 59(3): 1839-1846.
doi: 10.7498/aps.59.1839
|
[7] |
葛 洪, 张晓丹, 岳 强, 赵 静, 赵 颖. 甚高频等离子体增强化学气相沉积大面积平行板电极间真空电势差分布研究. 物理学报,
2008, 57(8): 5105-5110.
doi: 10.7498/aps.57.5105
|
[8] |
吴振宇, 杨银堂, 汪家友. 微波电子回旋共振等离子体化学气相淀积法制备非晶氟化碳薄膜的研究. 物理学报,
2006, 55(5): 2572-2577.
doi: 10.7498/aps.55.2572
|
[9] |
杨杭生. 等离子体增强化学气相沉积法制备立方氮化硼薄膜过程中的表面生长机理. 物理学报,
2006, 55(8): 4238-4246.
doi: 10.7498/aps.55.4238
|
[10] |
张晓丹, 赵 颖, 高艳涛, 朱 锋, 魏长春, 孙 建, 王 岩, 耿新华, 熊绍珍. 甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅太阳电池的研究. 物理学报,
2005, 54(4): 1899-1903.
doi: 10.7498/aps.54.1899
|
[11] |
王 淼, 李振华, 竹川仁士, 齐藤弥八. 利用微波等离子体增强化学气相沉积法定向生长纳米碳管的研究. 物理学报,
2004, 53(3): 888-890.
doi: 10.7498/aps.53.888
|
[12] |
曾湘波, 廖显伯, 王 博, 刁宏伟, 戴松涛, 向贤碧, 常秀兰, 徐艳月, 胡志华, 郝会颖, 孔光临. 等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼. 物理学报,
2004, 53(12): 4410-4413.
doi: 10.7498/aps.53.4410
|
[13] |
杨恢东, 吴春亚, 赵 颖, 薛俊明, 耿新华, 熊绍珍. 甚高频等离子体增强化学气相沉积法沉积μc-Si∶H薄膜中氧污染的初步研究. 物理学报,
2003, 52(11): 2865-2869.
doi: 10.7498/aps.52.2865
|
[14] |
于 威, 刘丽辉, 侯海虹, 丁学成, 韩 理, 傅广生. 螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜. 物理学报,
2003, 52(3): 687-691.
doi: 10.7498/aps.52.687
|
[15] |
张永平, 顾有松, 高鸿钧, 张秀芳. 微波等离子体化学气相沉积法制备C3N4薄膜的结构研究. 物理学报,
2001, 50(7): 1396-1400.
doi: 10.7498/aps.50.1396
|
[16] |
叶超, 宁兆元, 程珊华, 康健. 微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法沉积氟化非晶碳薄膜的研究. 物理学报,
2001, 50(4): 784-789.
doi: 10.7498/aps.50.784
|
[17] |
宁兆元, 程珊华, 叶超. 电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构. 物理学报,
2001, 50(3): 566-571.
doi: 10.7498/aps.50.566
|
[18] |
辛 煜, 范叔平, 狄国庆, 沈明荣, 甘肇强. 微波等离子体化学汽相沉积法沉积CNx膜的研究. 物理学报,
1998, 47(1): 154-159.
doi: 10.7498/aps.47.154
|
[19] |
刘湘娜, 吴晓薇, 鲍希茂, 何宇亮. 用等离子体增强化学汽相沉积方法制备纳米晶粒硅薄膜光致发光. 物理学报,
1994, 43(6): 985-990.
doi: 10.7498/aps.43.985
|
[20] |
张仿清, 张亚非, 杨映虎, 李敬起, 陈光华, 蒋翔六. 直流弧光放电化学气相沉积(CVD)法制备金刚石薄膜及其等离子体的光发射谱原位测量. 物理学报,
1990, 39(12): 1965-1969.
doi: 10.7498/aps.39.1965
|