| [1] |
杨郁, 唐成双, 赵一帆, 虞一青, 辛煜. 甚高频激发的容性耦合Ar+O2等离子体电负特性研究. 物理学报,
2017, 66(18): 185202.
doi: 10.7498/aps.66.185202
|
| [2] |
王俊, 王涛, 唐成双, 辛煜. 甚高频激发容性耦合氩等离子体的电子能量分布函数的演变. 物理学报,
2016, 65(5): 055203.
doi: 10.7498/aps.65.055203
|
| [3] |
何素明, 戴珊珊, 罗向东, 张波, 王金斌. 等离子体增强化学气相沉积工艺制备SiON膜及对硅的钝化. 物理学报,
2014, 63(12): 128102.
doi: 10.7498/aps.63.128102
|
| [4] |
侯国付, 薛俊明, 袁育杰, 张晓丹, 孙建, 陈新亮, 耿新华, 赵颖. 高压射频等离子体增强化学气相沉积制备高效率硅薄膜电池的若干关键问题研究. 物理学报,
2012, 61(5): 058403.
doi: 10.7498/aps.61.058403
|
| [5] |
李天微, 刘丰珍, 朱美芳. 射频激发热丝化学气相沉积制备硅薄膜过程中光发射谱的研究. 物理学报,
2011, 60(1): 018103.
doi: 10.7498/aps.60.018103
|
| [6] |
张海燕, 曹亚萍, 于建波, 陈先华. 采用单个压电传感器的单模式兰姆波激发频率的选择. 物理学报,
2011, 60(11): 114301.
doi: 10.7498/aps.60.114301
|
| [7] |
丁艳丽, 朱志立, 谷锦华, 史新伟, 杨仕娥, 郜小勇, 陈永生, 卢景霄. 沉积速率对甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅薄膜生长标度行为的影响. 物理学报,
2010, 59(2): 1190-1195.
doi: 10.7498/aps.59.1190
|
| [8] |
韩晓艳, 侯国付, 魏长春, 张晓丹, 戴志华, 李贵君, 孙建, 陈新亮, 张德坤, 薛俊明, 赵颖, 耿新华. 高速沉积本征微晶硅的优化及其在太阳电池中的应用. 物理学报,
2009, 58(6): 4254-4259.
doi: 10.7498/aps.58.4254
|
| [9] |
孙福河, 张晓丹, 王光红, 许盛之, 岳强, 魏长春, 孙建, 耿新华, 熊绍珍, 赵颖. 硼对沉积本征微晶硅薄膜特性的影响. 物理学报,
2009, 58(2): 1293-1297.
doi: 10.7498/aps.58.1293
|
| [10] |
郭学军, 卢景霄, 陈永生, 张庆丰, 文书堂, 郑 文, 申陈海, 陈庆东. 甚高频高速沉积微晶硅薄膜的研究. 物理学报,
2008, 57(9): 6002-6006.
doi: 10.7498/aps.57.6002
|
| [11] |
葛 洪, 张晓丹, 岳 强, 赵 静, 赵 颖. 甚高频等离子体增强化学气相沉积大面积平行板电极间真空电势差分布研究. 物理学报,
2008, 57(8): 5105-5110.
doi: 10.7498/aps.57.5105
|
| [12] |
陈 飞, 张晓丹, 赵 颖, 魏长春, 孙 建. 硅薄膜沉积过程中等离子发光基团的一维空间分布研究. 物理学报,
2008, 57(5): 3276-3280.
doi: 10.7498/aps.57.3276
|
| [13] |
于 威, 王保柱, 杨彦斌, 路万兵, 傅广生. 螺旋波等离子体化学气相沉积纳米硅薄膜的光学发射谱研究. 物理学报,
2005, 54(5): 2394-2398.
doi: 10.7498/aps.54.2394
|
| [14] |
张晓丹, 赵 颖, 高艳涛, 朱 锋, 魏长春, 孙 建, 王 岩, 耿新华, 熊绍珍. 甚高频等离子体增强化学气相沉积制备微晶硅太阳电池的研究. 物理学报,
2005, 54(4): 1899-1903.
doi: 10.7498/aps.54.1899
|
| [15] |
曾湘波, 廖显伯, 王 博, 刁宏伟, 戴松涛, 向贤碧, 常秀兰, 徐艳月, 胡志华, 郝会颖, 孔光临. 等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼. 物理学报,
2004, 53(12): 4410-4413.
doi: 10.7498/aps.53.4410
|
| [16] |
于 威, 刘丽辉, 侯海虹, 丁学成, 韩 理, 傅广生. 螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜. 物理学报,
2003, 52(3): 687-691.
doi: 10.7498/aps.52.687
|
| [17] |
杨恢东, 吴春亚, 赵 颖, 薛俊明, 耿新华, 熊绍珍. 甚高频等离子体增强化学气相沉积法沉积μc-Si∶H薄膜中氧污染的初步研究. 物理学报,
2003, 52(11): 2865-2869.
doi: 10.7498/aps.52.2865
|
| [18] |
宁兆元, 程珊华, 叶超. 电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构. 物理学报,
2001, 50(3): 566-571.
doi: 10.7498/aps.50.566
|
| [19] |
叶超, 宁兆元, 程珊华, 康健. 微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法沉积氟化非晶碳薄膜的研究. 物理学报,
2001, 50(4): 784-789.
doi: 10.7498/aps.50.784
|
| [20] |
刘湘娜, 吴晓薇, 鲍希茂, 何宇亮. 用等离子体增强化学汽相沉积方法制备纳米晶粒硅薄膜光致发光. 物理学报,
1994, 43(6): 985-990.
doi: 10.7498/aps.43.985
|
下载:
