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热原子层沉积氧化铝对硅的钝化性能及热稳定性

何悦 窦亚楠 马晓光 陈绍斌 褚君浩

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热原子层沉积氧化铝对硅的钝化性能及热稳定性

何悦, 窦亚楠, 马晓光, 陈绍斌, 褚君浩

Passivation and stability of thermal atomic layer deposited Al2O3 on CZ-Si

He Yue, Dou Ya-Nan, Ma Xiao-Guang, Chen Shao-Bin, Chu Jun-Hao
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-02-16
  • 修回日期:  2012-06-27
  • 刊出日期:  2012-12-05

热原子层沉积氧化铝对硅的钝化性能及热稳定性

  • 1. 尚德太阳能电力有限公司, 上海 201114;
  • 2. 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室, 上海 200083
    基金项目: 国家自然科学基金(批准号: 60821092, U1037604), 上海市启明星计划(批准号: 11QB1406800)和上海技术物理研究所创新项目(批准号: Q-ZY-51)资助的课题.

摘要: 原子层沉积氧化铝已经成为应用于钝化发射极和背面点接触(PERC) 型晶硅太阳能电池优异的钝化材料. 对于基于丝网印刷技术的太阳能电池, 钝化材料的钝化效果及其热稳定性是非常重要的. 本文在太阳能级硅片上用热原子层沉积设备制备了20 nm和30 nm的氧化铝, 少子寿命测试结果显示初始沉积的氧化铝薄膜具有一定的钝化效果, 在退火后可达到100 μs以上, 相当于硅表面复合速度小于100 cm/s. 经过制备传统晶硅太阳能电池的烧结炉后, 少子寿命能够保持在烧结前的一半以上, 可应用于工业PERC型电池的制备. 通过电子显微镜观察到了较厚的氧化铝薄膜有气泡, 解释了30 nm氧化铝比20 nm氧化铝钝化性能和稳定性更差的异常表现.

English Abstract

参考文献 (10)

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